GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度现行
发布日期:2006-03-27
实施日期:2006-11-01
标准摘要
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。
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代替标准
现行标准
修改单
- 国别:
- 中国
- 英文名称:
- Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
- 中标分类:
- N 33
- ICS分类:
- 分析化学 > 化学分析
- 发布日期:
- 2006-03-27
- 实施日期:
- 2006-11-01
- 发布部门:
- 国家标准化管理委员会
- 发布号:
-
2006年第5号(总第92号)
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- 官方来源:
-
国家标准化管理委员会
- 起草单位: