帮助视频GB/T 32999-2016 表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率现行
标准摘要
本标准规定了利用俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)测定深度剖析离子溅射速率的方法，试样的离子溅射面积范围为0.4mm2～3.0mm2。本标准只适用于横向均匀的体相材料或单层材料，其离子溅射速率由溅射深度与溅射时间确定，溅射深度通过机械探针轮廓仪测得。
本标准提供了一种将深度剖析中的离子溅射时间转换为溅射深度的方法，并假设溅射速率恒定。本方法不是为扫描探针显微系统设计的，因此不能用扫描探针显微系统评价该方法。本方法不适用于溅射面积小于0.4mm2的情况，也不适用于溅射诱导的表面粗糙度与被测区域的溅射深度相比较明显的情况。
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代替标准
现行标准
修改单
- 国别:
- 中国
- 英文名称:
- Surface chemical analysis-Depth profiling-Measurement of sputtering rate:mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer
- 中标分类:
- G 04
- ICS分类:
- 分析化学 > 化学分析
- 发布日期:
- 2016-10-13
- 实施日期:
- 2017-09-01
- 发布部门:
- 国家质量监督检验检疫总局＆国家标准化管理委员会
- 发布号:
- 2016年第17号 点此查看此公告发布的标准
- 官方来源:
- 国家标准化管理委员会
- 起草单位:
- 北京师范大学分析测试中心＆清华大学分析中心
- 本标准无引用标准
- 本标准无被引用标准
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